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气相沉积炉(CVD炉)

浏览次数:29    时间:2016-08-05

气相沉积炉(CVD炉)

详细介绍

主要功能和特点

1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成,最高真空可达0.001Pa

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界顶级Swagelok卡套连接,不漏气;

5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。

主要用途和适用范围

    高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

 

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