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浏览次数：21 时间：2020-02-02
详细介绍
1200℃气相沉积炉（CVD炉）产品介绍
HKCVD-1200由开启式单（双）温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点：
1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成，最高真空可达0.001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要用途和适用范围：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
技术参数：
HKCVD-1200 | . | |
控温方式 | 采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。 | |
加热元件 | 0Cr27Al7Mo2 | |
工作电源 | AC220V 50HZ/60HZ | |
额定功率 | 4KW | |
炉管尺寸 | Φ60/Φ80/Φ100*1000mm | |
工作温度 | ≤1150℃ | |
最高温度 | 1200℃ | |
恒温精度 | ±1℃ | |
加热区长度 | 440mm或220mm/220mm | |
升温速度 | ≤20℃/min | |
密封方式 | 不锈钢快速法兰挤压密封 | |
HKCVD-1200-K | 真空范围 | 0.1-0.01Pa |
极限真空 | 4.0*10^-4Pa | |
产品配置 | 双级旋片真空泵+扩散泵 | |
测量方式 | 复合真空计 | |
真空规管 | 电阻规+电离规 | |
冷却方式 | 水冷 | |
工作电源 | AC380V 50/60HZ | |
抽 速 | 100L/S | |
HKCVD-1200-I | 测量范围 | 1*10^5～1*10^-1 Pa |
稳压(真空)范围 | 1*10^3～1*10Pa | |
压力(真空)稳定精度 | ±3% | |
控制范围 | 2.5*10^3～5*10^-1 Pa | |
控制精度 | ±1% | |
HKCVD-1200-Ⅲ | 控制方式 | D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 |
流量规格 | 0－500SCCM /0－1SLM（可根据客户需要配置） | |
线 性 | ±1%F.S | |
准确度 | ±1%F.S | |
重复精度 | ±0.2%F.S. | |
响应时间 | ≤2sec | |
耐 压 | 3MPa | |
气路通道 | 3通道（根据客户需求） | |
针 阀 | 316不锈钢 | |
管 道 | Φ6mm不锈钢管 | |
接 口 | SwagelokΦ6mm | |
